45-nanometrowa technologia TI

Czwartek, 15 czerwca 2006, 13:51

Texas Instruments opublikował szczegóły procesu technologicznego pozwalającego na produkcję układów scalonych w wymiarze technologicznym 45 nm przy użyciu obecnie stosowanych laserów o długości fali 193 nm.

W odróżnieniu od stosowanej dotychczas techniki naświetlania przy użyciu masek przesuwających fazę TI stosuje odmienną technikę, nazwaną naświetlaniem imersyjnym. Zastosowano również inny od standardowego proces litograficzny, określany jako mokry.

Wdrożenie nowej technologii nastąpi w 2007 roku, produkcja komercyjna zostanie zaś podjęta w początkach roku 2008.

Wersja do druku

Poleć znajomym:

Udostępnij

Podobne tematy

Starsze

15.06.2006 r.

Oczekiwanie na spadające ceny procesorów, 13:51

Mobilna Vista tylko na hybrydach, 13:49

Nowsze

15.06.2006 r.

Poczta w Yahoo! nie jest bezpieczna, 13:53

18.06.2006 r.

Stały dostęp do Internetu dla wszystkich, 11:18

Opinie

Redakcja nie ponosi odpowiedzialności za wypowiedzi Internautów opublikowane na stronach serwisu oraz zastrzega sobie prawo do redagowania, skracania bądź usuwania komentarzy zawierających treści zabronione przez prawo, uznawane za obraźliwie lub naruszające zasady współżycia społecznego.

Brak komentarzy. Może warto dodać swój własny?