Data: Czwartek, 15 czerwca 2006, 13:51

45-nanometrowa technologia TI

Texas Instruments opublikował szczegóły procesu technologicznego pozwalającego na produkcję układów scalonych w wymiarze technologicznym 45 nm przy użyciu obecnie stosowanych laserów o długości fali 193 nm.

W odróżnieniu od stosowanej dotychczas techniki naświetlania przy użyciu masek przesuwających fazę TI stosuje odmienną technikę, nazwaną naświetlaniem imersyjnym. Zastosowano również inny od standardowego proces litograficzny, określany jako mokry.

Wdrożenie nowej technologii nastąpi w 2007 roku, produkcja komercyjna zostanie zaś podjęta w początkach roku 2008.