Poniedziałek, 1 marca 2010, 17:58
Intel omija problemy z EUV
Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.Problemy z EUV nie są dla nikogo tajemnicą. Jednak obecnie opóźnienie z wdrożeniem nowej technologii grozi komplikacjami na rynku półprzewodników. Intel miał nadzieję, że będzie w stanie wykorzystać EUV przy 22-nanometrowym procesie technologicznym, którego uruchomienie przewidziano na przyszły rok. Jednak, jak powiedział Yan Borodowvsky, odpowiedzialny za zaawansowane technologie litograficzne w intelowskiej Technology and Manufacturing Group, EUV nie będzie gotowa na czas. Przynajmniej dla Intela pojawi się ona za późno.
Dlatego też koncern, który obecnie używa wyłącznie urządzeń Nikona, ma zamiar przystosować je w tych procesach technologicznych, w których miał zamiar korzystać z EUV. Intel korzysta teraz ze 193-nanometrowych "suchych" skanerów Nikona do produkcji układów w technologii 45 nanometrów, a od niedawna korzysta z podobnych maszyn do litografii zanurzeniowej. Już w ubiegłym roku firma, obawiając się, że producenci sprzętu litograficznego nie będą w stanie dostarczyć jej na czas skanerów EUV, oznajmiła, że ma zamiar przystosować 193-nanometrowe skanery zanurzeniowe do produkcji 22-nanometrowych układów. Koncern nie wykluczył też, że rozważy przystosowanie takich maszyn do 15-nanometrowego procesu produkcyjnego, który chce wdrożyć w 2013 roku. Teraz firma mówi, że zastanawia się też nad produkowaniem w ten sposób również 11-nanometrowych układów. Przedstawiciele Intela mają jednak nadzieję, że do tego czasu pojawią się już odpowiednie urządzenia EUV lub do litografii bezmaskowej i 193-nanometrowe skanery będą stanowiły jedynie uzupełnienie nowej technologii.
Na razie nie wiadomo, którą technologię wybierze Intel. Firma, by zdążyć z wdrożeniem w swoich liniach produkcyjnych skanerów EUV musi otrzymać je w 2011 lub 2012 roku. Urządzenia do litografii bezmaskowej muszą być dostępne najpóźniej w 2012 roku.
Mariusz Błoński
Wersja do druku
Podobne tematy
Intel ogłasza budowę fabryk za ponad 20 miliardów USD
, 03.05.2022 r.
Drukowany w 3D inteligentny hydrożel
, 25.05.2018 r.
Inteligentne urządzenia — takie jak smartwatch, smart TV, ruter czy aparat — są ze sobą połączone i tworzą coraz bardziej rozpowszechnione zjaw
, 19.09.2017 r.
Intel chce zintegrować Thunderbolt 3 w swoich procesorach
, 31.05.2017 r.
Sztuczna inteligencja lepiej przewiduje wyroki Sądu Najwyższego USA niż naukowcy zajmujący się prawem
, 07.05.2017 r.
Intel: 7 nanometrów bez EUV?
, 21.08.2016 r.
Ekstremalnie droga litografia EUV
, 22.11.2010 r.
Pierwszy układ scalony dzięki EUV
, 28.02.2008 r.
EUV - AMD i IBM bliżej 16 nm
, 28.02.2008 r.Starsze
13 mld USD wart rynek reklamy mobilnej?, 10:13
RapidShare ma skasować e-booki, 17:31
Nowsze
Redakcja nie ponosi odpowiedzialności za wypowiedzi Internautów opublikowane na stronach serwisu oraz zastrzega sobie prawo do redagowania, skracania bądź usuwania komentarzy zawierających treści zabronione przez prawo, uznawane za obraźliwie lub naruszające zasady współżycia społecznego.
Brak komentarzy. Może warto dodać swój własny?
Copyright © 2002-2024 | Prywatność | Load: 3.61 | SQL: 18 | Uptime: 202 days, 11:16 h:m |
Wszelkie uwagi prosimy zgłaszać pod adresem eddy@heh.pl