Prawo Moore'a zagrożone?

Eksperci zgromadzeni na Międzynarodowym sympozjum nt. litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie uznali, że prawo Moore'a może być zagrożone przez opóźniające się prace nad narzędziami do EUV.

Litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie wymaga zastosowania źródła światła o mocy 20-krotnie większej niż używana we współczesnej litografii. Być może 200-watowe źródła światła EUV powstaną do 2014 roku, ale ich opracowanie może potrwać dłużej.

Co prawda specjaliści z Interuniversity Microelectronics Centre (IMEC) wyprodukowali w ubiegłym roku około 3000 plastrów krzemowych w technologii EUV, używając przy tym źródła światła o mniejszej mocy, ale wykorzystana metoda jest 15-30 razy zbyt mało wydajna, by można było zastosować ją w produkcji masowej.

W ciągu trzech ostatnich lat udało się 20-krotnie polepszyć właściwości źródeł światła. Teraz, jeśli prawo Moore'a ma nadal działać, trzeba dokonać podobnego udoskonalenia w ciągu najbliższych 2 lat.

Mariusz Błoński


Wersja do druku

05.10.2012 r.

Czy odsprzedaż plików MP3 jest legalna?, 14:46

04.10.2012 r.

Ogniwo wodorowe dla telefonu, 18:02

08.10.2012 r.

ZTE i Huawei stanowią zagrożenie?, 14:18

10.10.2012 r.

Klawiatura mechaniczna Logitech, 8:54