Data: Niedziela, 7 października 2012, 15:08

Prawo Moore'a zagrożone?

Eksperci zgromadzeni na Międzynarodowym sympozjum nt. litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie uznali, że prawo Moore'a może być zagrożone przez opóźniające się prace nad narzędziami do EUV.

Litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie wymaga zastosowania źródła światła o mocy 20-krotnie większej niż używana we współczesnej litografii. Być może 200-watowe źródła światła EUV powstaną do 2014 roku, ale ich opracowanie może potrwać dłużej.

Co prawda specjaliści z Interuniversity Microelectronics Centre (IMEC) wyprodukowali w ubiegłym roku około 3000 plastrów krzemowych w technologii EUV, używając przy tym źródła światła o mniejszej mocy, ale wykorzystana metoda jest 15-30 razy zbyt mało wydajna, by można było zastosować ją w produkcji masowej.

W ciągu trzech ostatnich lat udało się 20-krotnie polepszyć właściwości źródeł światła. Teraz, jeśli prawo Moore'a ma nadal działać, trzeba dokonać podobnego udoskonalenia w ciągu najbliższych 2 lat.

Mariusz Błoński