Wyjątkowo cienkie ścieżki

Naukowcy z MIT-u opracowali nową metodę nanoszenia wyjątkowo cienkich ścieżek na powierzchnię krzemu.

Używają w tym celu materiału, który pod wpływem światła o określonej długości zmienia się z przezroczystego w nieprzezroczysty i na odwrót. Materiały takie nie są niczym nowym, jednak to właśnie na MIT powstała technologia pozwalająca wykorzystać je w roli masek litograficznych służących do nanoszenia bardzo precyzyjnych struktur na materiał znajdujący się pod maską.

Techniki litograficzne wykorzystują światło, a możliwość jego skupienia na poddanej obróbce powierzchni jest ograniczona przez limit dyfrakcyjny, który sprawia, że nie może być ono użyte do stworzenia struktur mniejszych niż połowa długości fali światła.

Amerykańscy uczeni stworzyli zatem takie maski, w których różne długości światła czasem się wzmacniają, a czasem znoszą. Następnie poddali materiał fotochromatyczny działaniu światła przepuszczonego przez takie maski. Materiał fotochromatyczny zmienia przezroczystość pod wpływem światła. Tam, gdzie maski były ustawione w ten sposób, by to samo miejsce materiału znajdowało się pod różnie przepuszczającymi światło fragmentami masek. W ten sposób na powierzchni materiału fotochromatycznego powstawały wyjątkowo cienkie, przezroczyste linie oddzielone od siebie nieprzepuszczalnymi regionami. Materiał fotochromatyczny stawał się więc maską litograficzną, którą później można wykorzystać do produkcji układów scalonych. Nowa technika, nazwana modulacją absorbancji, umożliwia tworzenie linii o szerokości zaledwie 1/10 długości użytej fali światła.

Twórcy nowej metody już w tej chwili są w stanie kreślić za jej pomocą linie o szerokości 36 nanometrów. W ciągu 5 lat powstaną pierwsze układy scalone.

Mariusz Błoński


Wersja do druku

15.04.2009 r.

UPC przyspiesza do 30 Mbps, 17:46

iRiver: Podwodny odtwarzacz MP3, 17:34

15.04.2009 r.

Intel: Mocny spadek zysków, 17:50

Intel dostarcza pierwsze 32-nanometrowe Westemere, 17:51