25 nanometrów z MIT

Naukowcy z MIT (Massachusetts Institute of Technology) opracowali narzędzie litograficzne, które umożliwia tworzenie linii o grubości 25 nanometrów, które leżą od siebie w odległości 25 nanometrów. Tak zwana nanolinijka może współpracować z już obecnie wykorzystywanymi narzędziami do litografii optycznej.

Osiągnięcie MIT-u jest o tyle ważne, że pokazuje, iż obecne techniki litograficzne można będzie wykorzystywać jeszcze przez lata. Większość układów scalonych, które są dostępne na rynku, jest wykonana w technologii 65 nanometrów. Pojawiają się też kości 45-nanometrowe, a w przyszłym roku Intel chce rozpocząć produkcję układów scalonych w technologii 32 nm. Przewiduje się, że technologia 25 nanometrów wejdzie do użycia w latach 2013-2015.

Mariusz Błoński


Wersja do druku

15.07.2008 r.

Intel bierze SLI, NVIDIA QPI, 12:47

14.07.2008 r.

IBM: Superkomputer na nowym CPU Power7, 20:48

15.07.2008 r.

Projektor Optoma EX330, 15:31

Tysiące CV w Sieci - GIODO rozpoczął kontrolę Pekao, 15:37