Intel: 7 nanometrów bez EUV?

Podczas Intel Developer Forum przedstawiciele Intela wyrazili wątpliwości, czy ASML zdąży przygotować technologię ekstremalnie dalekiego ultrafioletu (EUV), by była ona gotowa do masowej produkcji 7-nanometrowych układów scalonych.

Intel już przed dwoma laty oficjalnie stwierdził, że nie będzie używał EUV przy produkcji układów w technologii 10 nanometrów. Teraz wygląda na to, że półprzewodnikowy gigant ma zamiar wdrożyć plan B - produkcję 7-nanometrowych układów bez EVU. Intel wykorzysta technologię zanurzeniową. Jednocześnie koncern oświadczył, że będzie stopniowo wdrażał EUV, w zależności od stopnia zaawansowania tej technologii. Niektóre elementy 7-nanometrowego procesu produkcyjnego mogą zostać przebudowane tak, by były kompatybilne z EUV. Wszystko jednak będzie zależało od tego, czy ASML dostarczy narzędzi o odpowiedniej jakości.

Mariusz Błoński


Wersja do druku

21.08.2016 r.

Google tworzy nowy system operacyjny?, 9:27

Telefony Nokia coraz bliżej rynkowej premiery, 9:24

23.08.2016 r.

Wzrost liczby sieci zainfekowanych komputerów z systemem Linux, 10:22

ProjectSauron: zaawansowana platforma szpiegowska przechwytująca zaszyfrowaną komunikację rządową, 10:25